特許
J-GLOBAL ID:200903099678739113

シクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸からポリ(シクロヘキサン-1,4-ジカルボキシレート)を製造する方法、及び組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 松本 研一 ,  小倉 博 ,  伊藤 信和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-165933
公開番号(公開出願番号):特開2004-131687
出願日: 2003年06月11日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】実質的に夾雑物を含まない形態の高分子量・高結晶性ポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)の製造方法を提供する。【解決手段】ポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)、特にポリ(1,4-シクロヘキサンジメチレン-1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)が、触媒の存在下、約260°の最高温度で、エステル化法により、1,4-シクロヘキサンジメタノールのような1種類以上の比較的非揮発性のジオール及びシクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸から製造される。一実施形態では、この方法では2段階法を使用し、その第二段階はメルト中又は固相で実施することができる。エチレングリコールのような揮発性ジオールが存在していてもよい。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
1種類以上の比較的非揮発性のジオールとシクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸を全ジオール/酸モル比0.97〜1.02:1で含む試薬を、エステル化触媒の存在下、220〜260°Cの温度で互いに接触させることを含んでなるポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)の製造方法。
IPC (1件):
C08G63/78
FI (1件):
C08G63/78
Fターム (41件):
4J029AA03 ,  4J029AB05 ,  4J029AC01 ,  4J029AC02 ,  4J029AD01 ,  4J029AD06 ,  4J029AD10 ,  4J029BA03 ,  4J029BA04 ,  4J029BA05 ,  4J029BD07A ,  4J029CD03 ,  4J029HA01 ,  4J029HB01 ,  4J029JC751 ,  4J029JF021 ,  4J029JF131 ,  4J029JF141 ,  4J029JF161 ,  4J029JF181 ,  4J029JF221 ,  4J029JF231 ,  4J029JF251 ,  4J029JF281 ,  4J029JF291 ,  4J029JF331 ,  4J029JF341 ,  4J029JF361 ,  4J029JF371 ,  4J029JF421 ,  4J029JF471 ,  4J029JF541 ,  4J029JF551 ,  4J029JF561 ,  4J029JF571 ,  4J029KB02 ,  4J029KD01 ,  4J029KE03 ,  4J029KE05 ,  4J029KE12 ,  4J029KE15

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