特許
J-GLOBAL ID:200903099678739113
シクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸からポリ(シクロヘキサン-1,4-ジカルボキシレート)を製造する方法、及び組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
松本 研一
, 小倉 博
, 伊藤 信和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-165933
公開番号(公開出願番号):特開2004-131687
出願日: 2003年06月11日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】実質的に夾雑物を含まない形態の高分子量・高結晶性ポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)の製造方法を提供する。【解決手段】ポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)、特にポリ(1,4-シクロヘキサンジメチレン-1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)が、触媒の存在下、約260°の最高温度で、エステル化法により、1,4-シクロヘキサンジメタノールのような1種類以上の比較的非揮発性のジオール及びシクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸から製造される。一実施形態では、この方法では2段階法を使用し、その第二段階はメルト中又は固相で実施することができる。エチレングリコールのような揮発性ジオールが存在していてもよい。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
1種類以上の比較的非揮発性のジオールとシクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸を全ジオール/酸モル比0.97〜1.02:1で含む試薬を、エステル化触媒の存在下、220〜260°Cの温度で互いに接触させることを含んでなるポリ(1,4-シクロヘキサンジカルボキシレート)の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (41件):
4J029AA03
, 4J029AB05
, 4J029AC01
, 4J029AC02
, 4J029AD01
, 4J029AD06
, 4J029AD10
, 4J029BA03
, 4J029BA04
, 4J029BA05
, 4J029BD07A
, 4J029CD03
, 4J029HA01
, 4J029HB01
, 4J029JC751
, 4J029JF021
, 4J029JF131
, 4J029JF141
, 4J029JF161
, 4J029JF181
, 4J029JF221
, 4J029JF231
, 4J029JF251
, 4J029JF281
, 4J029JF291
, 4J029JF331
, 4J029JF341
, 4J029JF361
, 4J029JF371
, 4J029JF421
, 4J029JF471
, 4J029JF541
, 4J029JF551
, 4J029JF561
, 4J029JF571
, 4J029KB02
, 4J029KD01
, 4J029KE03
, 4J029KE05
, 4J029KE12
, 4J029KE15
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