特許

J-GLOBAL ID：200903099679862806

高純度のゼオライトの製造方法

発明者： 山 崎 淳 司 ,  當 房 博 幸 ,  松 永 久 宏 ,  磯 村 敬一郎
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-067649
公開番号（公開出願番号）：特開平8-259221
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【目的】高炉水砕スラグを原料として高純度のゼオライト、シリカゲルおよび水酸化アルミニウムを製造する方法を提供する。【構成】高炉水砕スラグの溶液をpH<3.0に調整し、生成するシリカゲルを分離、洗浄し、このシリカゲルに対してAl<SB>2 </SB>O<SB>3 </SB>分、Na分を添加して水熱合成する。高炉水砕スラグの溶解は酸で行ない、この溶液からCa分を除去し、高純度のシリカゲルを分離してゼオライトの合成に用いる。シリカゲルを分離した後の溶液はpH>13にして沈殿物を分離し、さらにpHを4〜9に調整して高純度のAl(OH)<SB>3</SB>を沈殿させ分離し、これをゼオライトの合成に用いてもよい。この途中で得られるシリカゲルおよび水酸化アルミニウムは、高純度である。A型ゼオライトを得ようとするときには、水熱合成条件を、温度60〜120°C、時間6〜100hr、SiO<SB>2 </SB>/Al<SB>2 </SB>O<SB>3 </SB>比=2.5〜10とする。X型ゼオライトを得ようとするときには、水熱合成条件を、温度90〜150°C、時間6〜100hr、SiO<SB>2 </SB>/Al<SB>2 </SB>O<SB>3 </SB>比=10〜25とする。

請求項（抜粋）：

高炉水砕スラグの溶液をpH<3.0に調整し、生成するシリカゲルを分離、洗浄し、このシリカゲルに対してAl<SB>2 </SB>O<SB>3 </SB>分、Na分を添加して水熱合成する高純度のゼオライトの製造方法。