特許
J-GLOBAL ID:200903099682100488
光学素子の作製方法・光学素子・光ピックアップ・光ディスク装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
樺山 亨
, 本多 章悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-241794
公開番号(公開出願番号):特開2004-078091
出願日: 2002年08月22日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
【課題】作製が容易で小型化・低コスト化に寄与でき、且つ、膜劣化等の問題も解消できる光学素子を提供する。【解決手段】基板に光源の波長より十分小さい周期構造を形成した後、該基板の屈折率を変える。例えば、石英ガラス製の基板3上にEBレジスト5を塗布する(a)。EB描画装置でパターンを描画し、現像する(b)。Crなどの金属膜6を真空蒸着で成膜し、レジスト剥離液によるリフトオフ法で金属膜パターンを形成する(c)。金属膜パターンを形成した基板3をCF4やC4F8、CHF3などのフロロカーボンガスを用いてドライエッチングを行い(d)、微細な周期構造4を形成し、金属膜を除去する(e)。最後に、周期構造4にボロンBをドープして1/4波長板が完成する(f)。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
基板に光源の波長より十分小さい周期構造を形成して複屈折特性を付与してなる光学素子において、
上記基板に上記周期構造を形成した後、該基板の屈折率を変えることを特徴とする光学素子の作製方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (43件):
2H049BA07
, 2H049BA45
, 2H049BB42
, 2H049BC01
, 2H049BC08
, 2H049BC21
, 2H049BC25
, 5D119AA01
, 5D119AA32
, 5D119AA38
, 5D119BA01
, 5D119BB02
, 5D119BB03
, 5D119EA02
, 5D119EA03
, 5D119EC35
, 5D119FA05
, 5D119FA32
, 5D119JA14
, 5D119JA15
, 5D119JA32
, 5D119JA43
, 5D119JA64
, 5D119KA02
, 5D119NA05
, 5D789AA01
, 5D789AA32
, 5D789AA38
, 5D789BA01
, 5D789BB02
, 5D789BB03
, 5D789EA02
, 5D789EA03
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, 5D789FA05
, 5D789FA32
, 5D789JA14
, 5D789JA15
, 5D789JA32
, 5D789JA43
, 5D789JA64
, 5D789KA02
, 5D789NA05
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