特許
J-GLOBAL ID：200903099682955530
加速度センサ及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1998003994
公開番号（公開出願番号）：WO1999-013343
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 1999年03月18日
要約：
【要約】本発明は、高度な半導体技術やマイクロマシニング技術を利用せずに、安価で高精度の加速度センサ及びその製造方法を実現することを目的とする。本発明は、加速度により歪みが発生する部分にのみシリコン基板(1)を用い、他の補助基板(4A,4B)やキャップ(8A,8B)及び質量体(6A,6B)はガラス材料で形成し、シリコン基板(1)と質量体(6A,6B)及び補助基板(4A,4B)との接合や補助基板(4A,4B)とキャップ(8A,8B)との接合を直接接合により行ってこれを実現した。
請求項（抜粋）：
舌状の切片を有するようにスリットが形成されたシリコン基板と、前記舌状の切片の片面あるいは両面の先端部側に設けられた質量体と、前記質量体の表面に形成された可動電極とからなるセンサ部と、前記質量体と対向する位置に溝部を有するとともにその表面に固定電極が形成されたキャップ基板とを備え、前記センサ部は前記キャップ基板により挟持されるとともに、前記シリコン基板と質量体および前記センサ部とキャップ基板とがそれぞれ直接接合により接合されていることを特徴とする加速度センサ。
IPC (3件)：
G01P 15/12
, G01P 15/125
, H01L 29/84
