ハイドレートの製造方法および製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069291
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256227
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】ハイドレート形成物質と水とを効率的に反応させて高濃度のハイドレートを高速に生成する製造方法、およびその製造装置を提供する。【解決手段】ハイドレート生成容器1内で水とハイドレート形成物質(例えばメタン)とをハイドレート生成容器1内で反応させてハイドレートを製造するに際して、ハイドレート生成容器1内の気相Gに、水を噴霧状にスプレーすることにより、水の単位体積あたりの表面積を大きくして、水粒子10と気相Gとの接触面積を大幅に増大させ、メタンハイドレートの生成速度を向上させる。そして、ハイドレート生成容器1内において、特に大きな水粒子の表面に、生成済みのハイドレートが表皮状に付着する可能性があるが、本発明では、超音波振動発生器6により、ハイドレート生成容器1内の気相あるいは水相を超音波振動させることにより、水粒子の表面に付着したハイドレート表皮を破壊分離する。

請求項（抜粋）：

ハイドレート生成容器内においてハイドレート形成物質からなる気相に、水を噴霧状にスプレーすることにより、水和反応を起こさせてハイドレートを生成するとともに、前記ハイドレート生成容器内の気相あるいは水相を超音波振動させることにより、水粒子の表面に付着した生成ずみのハイドレート表皮を分離することを特徴とするハイドレートの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 7/20 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 5/00 , C07C 9/04

FI (5件)：

C07C 7/20 , C07B 61/00 D , C07B 63/02 B , C07C 5/00 , C07C 9/04

Fターム (6件)：

4H006AA02 , 4H006AC90 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC14 , 4H006BE60

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