特許
J-GLOBAL ID：200903099689815377
液晶基板の陽極酸化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-328641
公開番号（公開出願番号）：特開平7-180094
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月18日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板Gのゲートパターンの陽極酸化をより均一にできる液晶基板の陽極酸化装置を提供する。【構成】 ガラス基板Gのゲートパターンの表面の酸化膜、不純物付着膜を酸化膜除去槽21に浸漬して除去し、洗浄リンス槽31に浸漬して洗浄リンスし、ゲートパターンの表面を表出させる。酸化膜除去後の二次汚染を防ぐために外気との間を上下シャッタ24で遮断するとともに、酸化膜除去槽21と洗浄リンス槽31および水中移動槽41と、洗浄リンス槽31および水中移動槽41と陽極酸化槽51とを、それぞれ上下シャッタ26および遮蔽板47で遮蔽する。陽極酸化槽51の雰囲気を遮蔽板47で遮蔽して、陽極酸化槽51の周囲の雰囲気に接触しないように、ガラス基板Gを陽極酸化槽51に浸漬することで、ゲートパターンの表面を保ちつつ処理液22に触れるようにし、陽極酸化の均一性、安定性を保つ。
請求項（抜粋）：
透明基板上にパターンを形成し、このパターンを陽極酸化する液晶基板の陽極酸化装置において、前記パターンの表面酸化膜を除去処理する酸化膜除去槽と、この酸化膜除去槽で表面酸化膜を除去したパターンを洗浄リンスする洗浄リンス槽と、この洗浄リンス槽で洗浄リンスされたパターンを陽極酸化する陽極酸化槽と、前記酸化膜除去槽、前記洗浄リンス槽および前記陽極酸化槽間に前記透明基板を連続的に搬送させる搬送手段と、前記酸化膜除去槽の雰囲気および外気を遮断する外気遮断手段と、前記酸化膜除去槽の雰囲気および前記陽極酸化槽の雰囲気を遮断する雰囲気遮断手段とを具備したことを特徴とする液晶基板の陽極酸化装置。
IPC (5件)：
C25D 19/00
, C25D 11/02
, G02F 1/136 500
, H01L 21/304 341
, H01L 21/316
