特許
J-GLOBAL ID：200903099705823601
酢酸ベンジルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-010277
公開番号（公開出願番号）：特開平10-265437
出願日： 1998年01月22日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：
【要約】【課題】 高活性、高選択率の触媒を用いた工業的に有用な酢酸ベンジルの製造方法を提供する。【解決手段】 トルエン、酢酸及び酸素を液相で反応させて酢酸ベンジルを製造する方法において、パラジウムとアンチモンをシリカに担持した触媒であり、パルス法一酸化炭素吸着量から求めたパラジウムの分散度が0.05以下であって、かつ触媒中のパラジウムとアンチモンの比が、パラジウム/アンチモン(原子比)として1〜10である触媒を用いる。
請求項（抜粋）：
トルエン、酢酸及び酸素を液相で反応させて酢酸ベンジルを製造する方法において、パラジウムとアンチモンをシリカに担持した触媒であり、パルス法一酸化炭素吸着量から求めたパラジウムの分散度が0.05以下であって、かつ触媒中のパラジウムとアンチモンの比が、パラジウム/アンチモン(原子比)として1〜10である触媒を用いることを特徴とする酢酸ベンジルの製造方法。
IPC (3件)：
C07C 69/157
, B01J 23/644
, C07B 61/00 300
C07C 69/157
, C07B 61/00 300
, B01J 23/64 101 Z
