特許
J-GLOBAL ID:200903099715382883

マイクロ波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河野 登夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-036778
公開番号(公開出願番号):特開平6-249445
出願日: 1993年02月25日
公開日(公表日): 1994年09月06日
要約:
【要約】【目的】 加熱室内部に水蒸気が充満した状態を確実に実現し、また水蒸気が充満するまでの間の結露の発生を防止して、被加熱物の種類及び量の如何に拘わらず、含水率の維持と加熱時間の短縮とが図れるようにする。【構成】 加熱室3の内部に配した載置台6の表面に、周縁6aの内側の全周に亘る凹溝62を形成する。加熱室3の前面ドア30を開いて載置台6中央の平坦部61上に被加熱物Aを載置する際に、凹溝62中に適宜量の水負荷Wを注入する。この後、前面ドア30を閉じマグネトロン4が発生するマイクロ波を加熱室3に導入して、被加熱物Aと共に水負荷Wに作用させ、両者が発生する水蒸気を加熱室3内部に充満させる。この充満の後に排気管31中途の電磁弁32を閉じ、加熱室3を密閉し、被加熱物Aを高圧下にて加熱する。また、加熱室3の周壁の外側にヒータ線7を付設し、前記加熱に際してヒータ線7への通電を併せて行い、加熱室3の周壁を加熱して、この周壁上での結露の発生を防ぐ。
請求項(抜粋):
マイクロ波が導入される加熱室を水蒸気が充満した状態で密閉し、該加熱室の内部に設けた載置台上の被加熱物を、前記マイクロ波の作用により高圧下にて加熱できるようにしたマイクロ波加熱装置において、前記載置台の表面の一部に、水負荷を注入するための凹部を具備することを特徴とするマイクロ波加熱装置。
IPC (3件):
F24C 7/02 ,  F24C 7/02 325 ,  F24C 1/00 310

前のページに戻る