無電解ニッケルめっき方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224996
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049448
出願日： 1999年08月09日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】無電解ニッケルめっき液の半永久的な使用を可能にする方法を提供する。【解決手段】次亜りん酸塩の酸化によって生じる亜りん酸塩を0.2〜2.5モル/Lの範囲で含む無電解ニッケルめっき液のうち所定の析出速度及びNi-P析出皮膜組成を与える無電解ニッケルめっき液組成を選定し、このめっき液の組成並びにpH値と合致するニッケルイオン、錯化剤、次亜りん酸塩及び亜りん酸塩濃度並びにpH値を有する無電解ニッケルめっき液を建浴し、このめっき液を用いてめっきを行いながら、上記めっき液の一部を連続的又は所定間隔毎に抜き出すと共に、この抜き出し量に応じて上記成分の濃度及びpH値を維持するように上記成分を含む補給液を連続的又は所定間隔毎に補給することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ニッケルイオンと、このニッケルイオンの錯化剤と、次亜りん酸塩とを含む無電解ニッケルめっき液を用いて20ターン以上めっきを継続する無電解ニッケルめっき方法であって、次亜りん酸塩の酸化によって生じる亜りん酸塩を0.2〜2.5モル/Lの範囲で含む無電解ニッケルめっき液のうち所定の析出速度及びNi-P析出皮膜組成を与える無電解ニッケルめっき液組成を選定し、このめっき液の組成並びにpH値と合致するニッケルイオン、錯化剤、次亜りん酸塩及び亜りん酸塩濃度並びにpH値を有する無電解ニッケルめっき液を建浴し、このめっき液を用いてめっきを行いながら、上記めっき液の一部を連続的又は所定間隔毎に抜き出すと共に、この抜き出し量に応じて上記成分の濃度及びpH値を維持するように上記成分を含む補給液を連続的又は所定間隔毎に補給することを特徴とする無電解ニッケルめっき方法。

IPC (2件)：

C23C 18/36 , C23C 18/31

FI (2件)：

C23C 18/36 , C23C 18/31 D

Fターム (12件)：

4K022BA14 , 4K022BA16 , 4K022DA01 , 4K022DB01 , 4K022DB02 , 4K022DB04 , 4K022DB07 , 4K022DB08 , 4K022DB20 , 4K022DB21 , 4K022DB28 , 4K022DB29

引用特許：

審査官引用 (8件)

無電解めっき浴の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-303554 出願人：上村工業株式会社
無電解ニッケルめっき浴の再生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-083316 出願人：上村工業株式会社
無電解Ni-Pの連続めっき法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-320834 出願人：日立化成工業株式会社

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