特許
J-GLOBAL ID：200903099727001834
インフレータ処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
中前 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-298272
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114063
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 インフレータ(ガス発生器)の爆発によって各機器が損傷することを防止することができ、毒性を有する危険物の発生のないインフレータ処理装置を提供する。【解決手段】 パッドモジュール11を加熱して、パッドモジュール11を構成するインフレータ11a内のガス発生剤を燃焼してガス17aを放出するパッドモジュール加熱手段と、加熱後のインフレータ11aを冷却するインフレータ冷却手段16を備えたインフレータ処理装置10において、パッドモジュール加熱手段は、パッドモジュール11を連続的に搬送する加熱用スクリューコンベヤ14内に高温ガスを供給可能であり、加熱用スクリューコンベヤ14には、パッドモジュール11の搬送下流側に、放出されたガス17aを通過可能なガス抜き孔29が形成されている。
請求項（抜粋）：
パッドモジュールを加熱して、該パッドモジュールを構成するインフレータ内のガス発生剤を燃焼してガスを放出するパッドモジュール加熱手段と、前記加熱後のインフレータを冷却するインフレータ冷却手段を備えたインフレータ処理装置において、前記パッドモジュール加熱手段は、前記パッドモジュールを連続的に搬送する加熱用スクリューコンベヤ内に高温ガスを供給可能であり、前記加熱用スクリューコンベヤには、前記パッドモジュールの搬送下流側に、前記放出されたガスを通過可能なガス抜き孔が形成されていることを特徴とするインフレータ処理装置。
Fターム (5件)：
3D054AA02
, 3D054DD33
, 3D054DD34
, 3D054DD40
, 3D054FF20
