特許

J-GLOBAL ID：200903099728596726

フッ化窒素排ガスの除害装置

発明者： 斎藤 喜二 ,  川端 博 ,  宮本 圭之 ,  佐枝 学
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社
代理人 (1件)： 北谷 寿一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-063939
公開番号（公開出願番号）：特開平5-277341
出願日： 1991年03月04日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：

【要約】【目的】 プラズマCVD装置をフッ化窒素でクリーニングする場合などにおいて、排ガス中に含有されるフッ化窒素を簡便且つ安価に除害処理する。【構成】 フッ化窒素に対して反応性を有するシリコン、チタン、ゲルマニウムなどの反応性処理剤を充填した乾式反応器12を排気系3のうちの排気ポンプ7の上手側に配置することにより、フッ化窒素を反応器に送給するだけで簡便且つ安価に除害し、装置全体をコンパクトにまとめられる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理チャンバー(1)の排気系(3)に排気ポンプ7及び除害装置(12)を設け、プラズマ処理チャンバー(1)から排気系(3)に排出されるフッ化窒素排ガスを除害装置(12)で除害処理するフッ化窒素排ガスの除害装置において、上記除害装置(12)がフッ化窒素に対して反応性を有するシリコン、チタン、ゲルマニウム、炭素などの反応性処理剤を充填した乾式反応器であり、当該反応器(12)をチャンバー(1)と排気ポンプ(7)との間に介装したことを特徴とするフッ化窒素排ガスの除害装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-237929
  
• 特公昭63-048570
  
• 特開昭61-061619