特許

J-GLOBAL ID：200903099733911222

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 林 豊
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089089
公開番号（公開出願番号）：特開2001-345263
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】 露光光の透過率を維持しつつ、低吸収性ガスの利用効率を向上して無駄な消費を抑制する。【解決手段】 所定の純度の低吸収性ガスを照明光学系のハウジング2及び投影光学系PLのハウジング内に供給するとともに、これらの部屋(2、PL)から排気されるガスを回収してマスクステージを収納するマスク室15と基板ステージを収納する基板室40に供給する、ガス供給系120を備えている。4つの部屋(2、PL、15、40)は、いずれも光源と基板との間の露光光の光路上に位置する。従って、各部屋に要求される低吸収性ガスの純度を十分に満足して露光光の透過率を維持しつつ、部屋(2、PL)内を流通した低吸収性ガスを部屋(15、40)内の置換用ガスとして利用するので、低吸収性ガスの利用効率を向上することができ、これにより低吸収性ガスの無駄な消費を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

エネルギビーム源からのエネルギビームによりマスクを照明し、該マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記エネルギビーム源と前記基板との間の前記エネルギビームの光路上に位置する少なくとも一つの閉空間と;前記エネルギビームが透過する特性を有する特定ガスを、前記閉空間のうちの任意の少なくとも一つである第1室内に供給し、前記第1室から排気されるガスを前記閉空間のうちの任意の少なくとも一つである第2室内に供給するガス供給系とを備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (2件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 F