特許

J-GLOBAL ID：200903099739084719

露光装置

発明者： 小林 満
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-372514
公開番号（公開出願番号）：特開2003-173960
出願日： 2001年12月06日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：

【要約】【課題】 基板の外周側から中心へ向かって走査する場合でも、スループットが低下することなく露光する。【解決手段】 光学系の投影領域Sと基板Wとを相対的に走査開始した後、所定時間経過後にパターンの像を基板W上の露光領域A2に走査露光する。投影領域Sの表面位置情報を計測する第1計測装置と、走査中に、第1計測装置に先立って露光領域A2の表面位置情報を計測する第2計測装置とを有する。第2計測装置は、投影領域Sと基板Wとが相対的に走査を開始した後、露光を開始するまでに相対移動する相対移動距離Lと同等以上の距離だけ、投影領域Sから離れた位置の表面位置情報を計測する。

請求項（抜粋）：

パターンの像を基板上に投影する光学系と、前記光学系における光軸方向の前記基板の表面位置情報を計測する面位置計測装置とを備え、前記光学系の投影領域と前記基板とを相対的に走査開始した後、所定時間経過後に前記パターンの像を前記基板上の露光領域に走査露光する露光装置であって、前記面位置計測装置は、前記投影領域の前記表面位置情報を計測する第1計測装置と、前記走査中に、前記第1計測装置に先立って前記露光領域の前記表面位置情報を計測する第2計測装置とを有し、該第2計測装置は、前記投影領域と前記基板とが相対的に走査を開始した後、露光を開始するまでに相対移動する相対移動距離以上、前記投影領域から離れた位置の前記表面位置情報を計測することを特徴とする露光装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G02B 7/28 ,  G03B 13/36 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 ,  G01B 11/00

FI (10件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  G01B 11/00 B ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 526 A ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 518 ,  G02B 7/11 M ,  G02B 7/11 N ,  G03B 3/00 A

Fターム (20件)：

2F065AA06 ,  2F065CC19 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ24 ,  2F065LL03 ,  2F065LL30 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2H011AA05 ,  2H011BA51 ,  2H011BB03 ,  2H051AA10 ,  2H051BB31 ,  2H051CB05 ,  5F046BA05 ,  5F046CC15 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10