特許
J-GLOBAL ID：200903099757554005
真空処理装置の高周波電極
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306510
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128750
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】シャワープレート上に突起を作らず、しかもシャワープレートの熱変形を無くする真空処理装置の高周波電極を提供する。【構成】加熱ヒータで加熱される基板と対向するように配置された放電電極を、ボトムプレート2の周縁部に立設された電極枠3を覆うようにシャワープレート7を配置して構成した高周波電極において、前記シャワープレート7の周縁部に、シャワープレート7とで隙間を形成するようにスライドアングル15を設けると共に、電極枠3の上端部に上記スライドアングル15を摺動自在に挟持する隙間を設け、また上記ボトムプレート3上に複数個の板バネ12をその板バネ12の撓み方向を前記シャワープレート7の中心付近から周辺方向へ向けて設けると共に、その板バネ12にシャワープレート固定具13を取付け、更にそのシャワープレート固定具13に前記シャワープレート7を固定する。
請求項（抜粋）：
加熱ヒーターで加熱される基板と対向するように配置される放電電極を、ボトムプレートの周縁部に立設された電極枠を覆うようにシャワープレートを配置して構成した真空処理装置の高周波電極において、上記シャワープレートの周縁部に、シャワープレート下面とで隙間を形成するようにスライドアングルを設けると共に、上記電極枠の上端部に上記スライドアングルを摺動自在に挟持する隙間を設け、また、上記ボトムプレート上に複数個の板バネを、その板バネの撓み方向を上記シャワープレートの中心付近から周辺方向に向けて設け、更に、そのシャワープレート固定具に上記シャワープレートを固定したことを特徴とする真空処理装置の高周波電極。
IPC (5件)：
C23C 16/50
, B01J 3/00
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H05H 1/46
