特許

J-GLOBAL ID：200903099761706596

高周波誘導結合プラズマ質量分析計

発明者： 山中 一夫 ,  川端 克彦
出願人/特許権者： 横河アナリティカルシステムズ株式会社
代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-082153
公開番号（公開出願番号）：特開平8-287865
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 マトリックス濃度の高い試料であっても、希釈することなく、直接分析可能とする。【構成】 スキマー46を、先端にイオン通過穴が形成されたスキマーコーン46Cと、該スキマーコーン46Cをフォアチャンバ42に取付けるためのスキマーベース46Bとを用いて構成すると共に、スキマーベース46Bをステンレス製として、その熱伝導性を悪くする。

請求項（抜粋）：

高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起させ、生じたイオンをノズルやスキマーを介して質量分析計に導いて、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラズマ質量分析計において、前記スキマーを、先端にイオン通過穴が形成されたスキマーコーンと、該スキマーコーンをチャンバに取付けるためのスキマーベースとを用いて構成すると共に、前記スキマーベースの熱伝導性を悪くしたことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析計。

IPC (3件)：

H01J 49/26 ,  H01J 49/04 ,  G01N 27/62

FI (3件)：

H01J 49/26 ,  H01J 49/04 ,  G01N 27/62 F