特許

J-GLOBAL ID：200903099774735188

有機EL素子作製用メタルマスク及び有機ELの製造方法

発明者： 稲葉 律夫
出願人/特許権者： 稲葉 律夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-316075
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077660
出願日： 2001年09月05日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】有機ELディスプレーデバイス作製の際に用いる画素構成用パターング用マスクを複合化した構成を取ることにより、精度の向上と大型化を可能とする。【課題】有機ELデバイスに用いる蒸着用メタルマスクは、基板の大型化に際して、従来の小型基板技術のそのままの拡大は、パターン精度の不足とパターンの位置精度の不足をもたらす。【解決手段】、マスク構成材料を、有機EL素子基板と同一の材料構成を取ることにより、熱膨張係数の問題の解決、基板間の密着性の向上によるパターン精度の向上等の従来の課題を解決する。

請求項（抜粋）：

有機EL素子作製において、素子構成材料となる有機材料あるいはカソード電極材料を基板にパターニングして発光画素を作製するさいに用いるパターニングマスクを、金属あるいはプラスチックから成るファインパターン部とセラミックから成る基台部との複合化したもの、あるいは金属あるいはプラスチックから成るファインパターン部とガラスから成る基台部の複合化した構造からなることを特徴とする有機素子作製用パターニングマスク及びそれを用いた有機EL素子作製方法。

IPC (6件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (6件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A

Fターム (41件)：

3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  5C094AA05 ,  5C094AA08 ,  5C094AA14 ,  5C094AA43 ,  5C094AA46 ,  5C094AA48 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH01 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10