特許
J-GLOBAL ID：200903099794689565
ガラス成形用型及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-311649
公開番号（公開出願番号）：特開平9-132418
出願日： 1995年11月07日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】本発明は、表面に微細パターンを有する高精度な光学素子の成形型に係り、形成されたパターンに粗れがなく、カケや局所的な剥離の生じ難いガラス成形用型及びその製造方法を得ることにある。【解決手段】ガラス成形用型の表面に、微細な溝や凹凸からなる微細パターンが形成された非晶質炭化ケイ素層を設けることにあり、少なくとも表面層がCVD法によって形成された多結晶炭化ケイ素からなる材料を最終形状に対応する形状に加工した後、表面からイオン注入を行い、前記表面層の表面近傍を非晶質化して非晶質層を形成し、ドライエッチングすることによって少なくとも前記非晶質層の一部を除去することにより、前記非晶質層の表面に微細パターンを形成するものである。
請求項（抜粋）：
表面に、微細な溝や凹凸からなる微細パターンが形成された非晶質炭化ケイ素層を有することを特徴とするガラス成形用型。
IPC (3件)：
C03B 11/00
, C23C 14/48
, C23C 30/00
C03B 11/00 M
, C23C 14/48 A
, C23C 30/00 C
