特許

J-GLOBAL ID：200903099803244270

マスク構造体、露光方法、露光装置、半導体デバイスの製造方法、マスク保管カセット、およびマスク保管室

発明者： 嵯峨 幸一郎
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-059975
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257839
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：

【要約】【課題】 他に補助的な設備を用いなくとも、また露光中および露光中以外でも常にマスク表面への汚染物質の付着や堆積を防ぐ。【解決手段】 照射された露光光を遮断または透過させるパターンが形成された薄膜3と、薄膜3を支持する外枠2とを有したマスク構造体であって、外枠2の少なくとも一部の表面にセラミック触媒層(例えば、アルミノケイ酸塩からなる有機不純物の吸着剤層)4が設けられている。

請求項（抜粋）：

照射された露光光を遮断または透過させるパターンが形成された薄膜と、薄膜を支持する外枠とを有したマスク構造体であって、上記外枠の少なくとも一部の表面にセラミック触媒層が設けられているマスク構造体。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305

FI (7件)：

G03F 1/14 M ,  G03F 1/14 Z ,  G03F 1/16 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (14件)：

2H095BA01 ,  2H095BA08 ,  2H095BC24 ,  2H095BE12 ,  5C034BB05 ,  5C034BB06 ,  5F046AA09 ,  5F046AA28 ,  5F046CB17 ,  5F046GD20 ,  5F056AA22 ,  5F056CB40 ,  5F056FA01 ,  5F056FA05