特許
J-GLOBAL ID：200903099808380244
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213732
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037077
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 被処理体の裏面への処理液の侵入を防止すると共に、気体の風圧を利用して被処理体の保持を行う。【構成】 ウエハWを保持するスピンチャック1に被処理体保持機構10を形成する。被処理体保持機構10を、N2 ガスの風圧を受けて回転する回転体11と、スピンチャック1の周辺部に配設される複数の被処理体保持爪12と、この被処理体保持爪12に回転体11の回転運動を伝達する伝達リンク13とで構成する。これにより、スピンチャック1上に載置されるウエハWの裏面に供給されるN2 ガスの風圧を受けて回転体11が回転し、回転体11の回転運動を伝達リンク13を介して被処理体保持爪12に伝達して、被処理体保持爪12によりウエハWの周縁部を挾持保持する。また、N2 ガスによってウエハWの裏面への処理液の回り込みを防止することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体を回転保持手段にて保持すると共に、被処理体の表面に処理液を供給して処理する処理装置において、上記回転保持手段に、上記被処理体の裏面に向って気体を供給すると共に、この気体の風圧により駆動して上記被処理体を保持する被処理体保持機構を形成してなることを特徴とする処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B23Q 3/06 303
, H01L 21/68
