特許
J-GLOBAL ID：200903099808919666
ブラックマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-326961
公開番号（公開出願番号）：特開平9-166777
出願日： 1995年12月15日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：
【要約】【課題】 ごみの付着等に起因するピンホールの発生を抑制すること。【解決手段】 本発明は、所定のガラス基板1上に遮光性を備えたブラックマスクを製造する方法であり、先ず、ガラス基板1上に第1遮光膜2を形成した後、所定の洗浄を行い、次いで、第1遮光膜2上に第2遮光膜3を形成し、その後、第1遮光膜2および第2遮光膜3の必要な部分のみを残すエッチング処理を行うようにしている。
請求項（抜粋）：
所定の基板上に遮光性を備えたブラックマスクを製造する方法において、前記基板上に第1遮光膜を形成した後、所定の洗浄を行う工程と、前記第1遮光膜上に第2遮光膜を形成する工程と、前記第1遮光膜および第2遮光膜の必要な部分のみを残すエッチング処理を行う工程とから成ることを特徴とするブラックマスクの製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/1335
, G02B 5/00
, G02B 5/20 101
G02F 1/1335
, G02B 5/00 B
, G02B 5/20 101
