特許

J-GLOBAL ID：200903099812601735

真空処理装置

発明者： 桐村 浩哉
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266359
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100922
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 被処理物品に所定の処理を施すための処理装置が設けられ、内部に該被処理物品を配置して所定圧力下に該所定の処理を施すための処理チャンバーを複数備える真空処理装置であって、同じ大きさで同じ数の複数の処理チャンバーを備える従来の真空処理装置よりも実質の設置面積を小さくでき、メンテナンス性のよい真空処理装置を提供することができる。【解決手段】 中央チャンバーCcの周囲に処理チャンバーC1〜C6、搬入用チャンバーCi、搬出用チャンバーCoが配置された真空処理装置A1。中央チャンバーの周囲に配置された八つのチャンバーは、上下方向に区分した下側第1階層と上側第2階層の二つの階層に別けて配置されており、中央チャンバーの周囲方向において隣合う二つのチャンバーは、異なる階層に互いに一部が重なり合うように配置されている。

請求項（抜粋）：

被処理物品に所定の処理を施すための処理装置が設けられ、内部を所定の圧力にすることができ、内部に該被処理物品を配置して所定圧力下に該所定の処理を施すための処理チャンバーを複数備える真空処理装置であって、前記処理チャンバーは、内部を所定の圧力にすることができる物品搬送用中央チャンバーの周囲に配置され、それぞれ該中央チャンバーに連設されており、前記各処理チャンバーは、上下方向に二以上に区分した複数の階層に別けて配置されており、前記中央チャンバーの周囲方向において各隣合う二つの処理チャンバーは異なる階層に配置されて互いに一部だけが重なり合っていることを特徴とする真空処理装置。

Fターム (8件)：

5F031AA10 ,  5F031CC01 ,  5F031CC12 ,  5F031CC13 ,  5F031EE11 ,  5F031EE12 ,  5F031KK06 ,  5F031KK07