特許
J-GLOBAL ID：200903099816639869
光導波路素子製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-009040
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214463
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 溝を有する基板の溝内をパターン材料で汚染することがない光導波路素子製造方法を提供する。【解決手段】 溝6を有する基板7上にレジスト3aを塗布する際にスピンコータを高速回転にして塗布することにより、溝6の開口部がレジスト3aで覆われて溝6内に空気8が閉じ込められるので、レジスト3aが蓋の役割を果たす。基板7上に塗布されたレジスト3aの上にレジスト3bを塗布する際にスピンコータを低速回転にして塗布することにより、基板7上に塗布されたレジスト3aよりレジスト3bが厚く塗布されるので、レジスト3bが蓋を保護する保護膜の役割を果たす。
請求項（抜粋）：
溝を有する基板の該溝以外の面にリフトオフ法でパターンを形成する工程を含む光導波路素子製造方法において、上記溝内に第一のレジストが入り込まないようにスピンコータを高速回転させて第一のレジストを上記基板上に塗布した後、上記基板上に塗布された第一のレジストより厚くなるように上記スピンコータを低速回転させて塗布された第一のレジスト上に第二のレジストを塗布することを特徴とする光導波路素子製造方法。
Fターム (4件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
