特許

J-GLOBAL ID：200903099830345061

ガス浄化装置

発明者： 藤田 龍夫 ,  寺島 徹生 ,  鈴木 基啓
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-266806
公開番号（公開出願番号）：特開2002-079046
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】【課題】 効率良く吸着材を再生でき、吸着材を交換不要であるガス浄化装置を提供する。【解決手段】 ガスを吸着する吸着手段と、触媒手段と、前記触媒手段を加熱する加熱器と、前記吸着手段に交流電場を付加する電場付加手段とを備え、ガスを前記吸着手段、前記触媒手段の順に通過させるガス浄化装置において、浄化時には、前記電場付加手段と前記加熱器とを非通電として、前記吸着手段によりガスを吸着し、前記吸着手段の再生時には、前記電場付加手段および前記加熱器に通電して前記吸着手段からガスを脱離し、副生成物を前記触媒手段で分解処理するガス浄化装置。

請求項（抜粋）：

ガスを吸着する吸着手段と、触媒手段と、前記触媒手段を加熱する加熱器と、前記吸着手段に交流電場を付加する電場付加手段とを備え、ガスを前記吸着手段、前記触媒手段の順に通過させるガス浄化装置において、浄化時には、前記電場付加手段と前記加熱器とを非通電として、前記吸着手段によりガスを吸着し、前記吸着手段の再生時には、前記電場付加手段および前記加熱器に通電して前記吸着手段からガスを脱離し、副生成物を前記触媒手段で分解処理するガス浄化装置。

IPC (8件)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/86 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/18 ,  F01N 3/24

FI (8件)：

F01N 3/08 A ,  F01N 3/08 C ,  F01N 3/18 B ,  F01N 3/24 E ,  F01N 3/24 L ,  B01D 53/34 ZAB A ,  B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/36 B

Fターム (24件)：

3G091AA06 ,  3G091AB01 ,  3G091AB08 ,  3G091BA07 ,  3G091BA20 ,  3G091CA03 ,  3G091GB06W ,  3G091GB17X ,  3G091HA20 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA20 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA45 ,  4D002EA08 ,  4D048AA22 ,  4D048BA30X ,  4D048BB02 ,  4D048BB05 ,  4D048CC52 ,  4D048EA04 ,  4D048EA10