特許
J-GLOBAL ID:200903099837656739
放電加工機で使用される水性媒体を脱イオン及び精製する方法及び該方法に使用される製品
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 西山 雅也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-554582
公開番号(公開出願番号):特表2005-537137
出願日: 2001年12月20日
公開日(公表日): 2005年12月08日
要約:
本発明は、放電加工機に使用される水性媒体を脱イオンし、精製する方法と、この方法で使用される製品に関する。放電加工機は、カチオン系及びアニオン系樹脂の間で水性誘電性媒体とともにイオン交換を生じる相を含み、また、前記水性媒体は、40μS/cm未満の導電率を有する。本発明によると、水性媒体に対して次のようなものが添加される:蒸留/脱イオン水中に蓚酸及び燐酸を含む溶液であって、その溶液1リットルについて概略割合で、0.018〜0.035モルの蓚酸及び1.28〜2.5モルの燐酸を含む溶液。本発明は、放電加工機で使用するのに好適である。
請求項(抜粋):
放電加工機で使用される水性媒体を脱イオン及び精製するためのものであって、前記放電加工機が、前記水性媒体のための精製回路を備え、その精製回路においてカチオン系及びアニオン系樹脂の間に水性誘電性媒体とともにイオン交換相が含まれる方法において、
40μS/cm未満の導電率を有する水性媒体に対して、蒸留/脱イオン水中の蓚酸及び燐酸の溶液を、溶液1リットルについて概略割合で、0.018〜0.035モルの蓚酸及び1.28〜2.5モルの燐酸で添加することを特徴とする、水性媒体を脱イオン及び精製する方法。
IPC (3件):
B23H1/10
, C02F1/42
, C02F1/58
FI (3件):
B23H1/10 Z
, C02F1/42 B
, C02F1/58 H
Fターム (24件):
3C059AA01
, 3C059AB05
, 3C059EA02
, 3C059EA10
, 4D025AA01
, 4D025AA06
, 4D025AB06
, 4D025AB20
, 4D025AB22
, 4D025AB23
, 4D025BA08
, 4D025BA13
, 4D025BB01
, 4D025CA04
, 4D025DA10
, 4D038AA01
, 4D038AA05
, 4D038AB60
, 4D038AB66
, 4D038AB68
, 4D038AB81
, 4D038AB87
, 4D038BA06
, 4D038BB08
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