特許
J-GLOBAL ID：200903099841356235
電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241904
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082428
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【構成】ウエハ上の広範囲の電子線走査領域から合わせマークを探しだす場合は帯域を数段階に切り替える機構108を広帯域とし、A/D変換時間を数段階に切り替えられる機構110を変換時間を短く(変換精度は落ちる)設定すると同時に、電子線偏向系106に対応するショットサイクルを設定することにより必要最小限の精度で高速に位置検出を行なう。【効果】従来、不必要な精度で長時間を要していた位置検出の検出精度と走査時間を最適に設定することにより、装置全体でのスループット向上に効果がある。
請求項（抜粋）：
反射電子または二次電子を検出する検出器と、前記検出器により検出された電気信号を増幅するにあたり帯域を数段階に切り替える機能を有する増幅回路と、増幅された信号をA/D変換するにあたり、変換時間を数段階に切り替える機能を有するA/Dコンバータと、前記A/Dコンバータによりデジタル化された信号を演算処理するプロセッサまたは演算回路を有する電子線描画装置において、合わせマークの位置検出を行なう際に、広い検出範囲から合わせマークを探しだす時には、前記増幅回路の帯域を広くし前記A/Dコンバータの変換時間を短くして得られた信号を演算処理することにより、検出精度は落ちるものの短時間で合わせマークを探しだすことを可能とし、探しだした合わせマークの位置を検出する際には、前記増幅回路の帯域を狭くし前記A/Dコンバータの変換時間を長くして得られた信号を演算処理することにより、装置のスループットを向上させつつ精度良く位置検出を行なうことを特徴とする電子線描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 D
, H01L 21/30 341 K
