X線回折測定方法及びX線回折測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：薄田利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-145226
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015184
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】LSIや磁気デバイスにおける微小部の深さ方向と面内の歪分布を正確かつ効率良くもとめつる。【構成】被測定試料に連続X線ビームを照射し、回折X線の輝度-エネルギ分布5(無歪層による分布1と歪層による分布6が重畳したもの)を求め、分布5の歪層による分布6が重畳していない領域4の分布から無歪層による分布1をもとめ、分布5から分布1を差引き分布6を求め、測定された回折X線の輝度-エネルギ布6からX線照射域内に存在する歪層と無歪層の格子面間隔を分離して求めるとともに、エネルギ分布形状のX線照射角依存性より深さ方向の歪分布を求める。

請求項（抜粋）：

測定すべき試料を搭載する試料台と、連続X線を上記試料の表面に対して所望の角度から照射するX線照射手段と、上記所望の射角における上記試料から放射される回折X線を検出する検出器と、上記検出器の信号から、空間分布又はエネルギを得る信号処理手段を有し、かつ上記検出器を3次元的に移動可能で、かつ試料上のX線照射位置を中心に回転可能とするする駆動手段と、上記試料内の所望結晶格子面が上記試料へ照射するX線と上記回折X線とから形成される平面に垂直で、上記試料の表面のX線の照射位置に対して上記格子面が上記平面に対して垂直を保持した状態で回転可能なように試料台が構成されたことを特徴とするX線回折測定装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭52-088086
特開昭53-027091
特開昭49-119686

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