特許
J-GLOBAL ID:200903099855228744

表面処理金属材及び金属表面処理剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-135983
公開番号(公開出願番号):特開2008-025023
出願日: 2007年05月22日
公開日(公表日): 2008年02月07日
要約:
【課題】クロメート処理材に代替可能な表面処理材としてウレタン樹脂系皮膜の特性を最大限に発揮する皮膜構成を見出すことで、加工性、耐食性及び耐溶剤性の諸課題を解決し、かつ各種特性に優れた表面処理金属材及び金属表面処理剤を提供する。【解決手段】金属材表面の少なくとも一部に、ポリウレタン樹脂、酸化ケイ素を少なくとも含有する皮膜を有する表面処理金属材であって、前記ポリウレタン樹脂が、シロキサン結合、シラノール基と他の官能基との脱水縮合結合及びシラノール残基のうちの一種以上と、ウレア結合とを含有し、皮膜固形分に対するケイ素を含有する化合物総量が1.6質量%以上25質量%以下であり、かつ前記ウレア結合とウレタン結合の総量が樹脂成分総量に対し窒素原子量換算で0.1質量%以上10質量%以下であることを特徴とする表面処理金属材、及びその皮膜を得るための金属表面処理剤である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属材表面の少なくとも一部に、ポリウレタン樹脂、酸化ケイ素を少なくとも含有する皮膜を有する表面処理金属材であって、 前記ポリウレタン樹脂が、シロキサン結合、シラノール基と他の官能基との脱水縮合結合、シラノール残基の内の一種以上、及びウレア結合を含有し、 前記シロキサン結合、シラノール基と他の官能基との脱水縮合結合及びシラノール残基の総量と前記酸化ケイ素の合計量が、前記皮膜の固形分に対し下記数式で表される範囲にあり、 1.6質量% ≦ ((Wa+Wb+Wc+Wd)/W)×100 ≦ 25質量% W:皮膜固形分の全質量、 Wa:シロキサン結合(-Si-O-Si-)を形成するケイ素の質量 Wb:シラノール基と他の官能基との脱水縮合結合(-Si-O-R-;RはSi以外の元素)を形成するケイ素の質量 Wc:シラノール残基(-Si-OH)を形成するケイ素の質量 Wd:酸化ケイ素を形成するケイ素の質量 かつ、 前記ウレア結合とウレタン結合の総量が樹脂成分総量に対し下記数式で表される範囲にあることを特徴とする、表面処理金属材。 0.1質量% ≦ ((Ta+Tb)/T)×100 ≦ 10質量% T:皮膜固形分中の樹脂成分の質量、 Ta:ウレア結合(-NH-CO-NH-)を形成する窒素の質量 Tb:ウレタン結合(-NH-CO-O-)を形成する窒素の質量
IPC (5件):
C23C 26/00 ,  C09D 175/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 123/00 ,  C09D 5/02
FI (5件):
C23C26/00 A ,  C09D175/00 ,  C09D7/12 ,  C09D123/00 ,  C09D5/02
Fターム (35件):
4J038CB002 ,  4J038DG001 ,  4J038DG181 ,  4J038GA03 ,  4J038GA15 ,  4J038HA396 ,  4J038HA446 ,  4J038JB09 ,  4J038JC38 ,  4J038KA03 ,  4J038MA08 ,  4J038MA09 ,  4J038MA10 ,  4J038MA14 ,  4J038NA04 ,  4J038NA10 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038PA19 ,  4J038PC02 ,  4K044AA02 ,  4K044AA03 ,  4K044AA06 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BA14 ,  4K044BA17 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BC02 ,  4K044BC05 ,  4K044CA11 ,  4K044CA18 ,  4K044CA53
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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