特許

J-GLOBAL ID：200903099858513890

静電吸着装置、静電吸着方法及びデバイス製造方法

発明者： 守田 憲司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047404
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237305
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】被処理基板の落下を防止できる静電吸着装置を提供する。【解決手段】 チャック12の側面に、ウエハ18に当接してウエハ18の横ズレを防止する部材であるピン19を付設する。チャック12とウエハ18間にHeガス供給中に静電力が不十分になってウエハ18が浮上しても、ウエハ18の横ズレを防止できる。

請求項（抜粋）：

被処理基板を静電力によって吸着するチャックと、チャックと被処理基板の間隙に伝熱ガスを供給するガス供給系と、を備える静電吸着装置であって;上記チャックに、被処理基板の側面に当接して被処理基板の横ズレを防止する部材が付設されていることを特徴とする静電吸着装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/30 503 C

Fターム (14件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA02 ,  5F031HA18 ,  5F031HA40 ,  5F031JA17 ,  5F031JA30 ,  5F031JA32 ,  5F031JA47 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F046CC08