特許

J-GLOBAL ID：200903099860199213

光合成微生物の高濃度培養法

発明者： 藤井 渉 ,  太田口 和久
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-036335
公開番号（公開出願番号）：特開2001-224362
出願日： 2000年02月15日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：

【要約】【課題】光合成微生物の高濃度培養法の提供。【解決手段】光合成微生物の培養液に厚さ30mm当たりの可視光透過率が20%以上且つ多孔質である微生物固定化担体を投入する事によって、培養液の液深を深くすることができ、且つ担体内部でも光合成微生物が繁殖し、担体内菌体濃度を10g/L以上に高めることができる。

請求項（抜粋）：

厚さ30mm当たりの可視光透過率が20%以上且つ多孔質である微生物固定化担体と光合成微生物とを共存させることを特徴とする光合成微生物の高濃度培養法。

IPC (3件)：

C12N 1/20 ,  C12N 1/12 ,  C12N 11/14

FI (3件)：

C12N 1/20 A ,  C12N 1/12 A ,  C12N 11/14

Fターム (11件)：

4B033NA17 ,  4B033NB12 ,  4B033NB36 ,  4B033NB68 ,  4B033NF06 ,  4B065AA83X ,  4B065AA89X ,  4B065BC07 ,  4B065BC42 ,  4B065BC48 ,  4B065CA55