特許
J-GLOBAL ID：200903099861775617
平面研磨装置用定盤
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-276584
公開番号（公開出願番号）：特開平6-099359
出願日： 1992年09月21日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】 定盤の内周側と外周側とにおける同じ幅の円環状領域内に位置するペレットの数(面積)の差を、各ペレット間の間隔を広げ過ぎることなく可及的に小さくすること。【構成】 定盤本体10における円環状の加工面に、同一形状及び同一大きさを有する複数の研磨用ペレット11を、定盤と中心Oを共有する複数の同心円mと定盤の中心からほぼ等角度で放射状に延びる複数の放射線nとの交点において、各同心円上のペレット数が互いに同数であると共に、隣接する放射線上のペレットが交互に異なる同心円上に位置するように取り付け、各同心円間の間隔aをペレットの直径dよりは小さいが半径2/dよりは大きい一定の大きさとした。【効果】 内周側と外周側とにおける同じ幅の円環状領域内に位置するペレット数の差が小さく、しかも、一つの同心円上における隣接するペレットの間に、その前後の同心円上に位置するペレットが部分的に入り込む形になるため、円周が長い定盤の外周部においても各ペレット間の間隔が広がり過ぎることがない。
請求項（抜粋）：
定盤本体における円環状の加工面に、同一形状及び同一大きさを有する複数の研磨用ペレットを、定盤と中心を共有する複数の同心円と定盤の中心からほぼ等角度で放射状に延びる複数の放射線との交点において、各同心円上のペレット数が互いに同数であると共に、隣接する放射線上のペレットが交互に異なる同心円上に位置するように取り付け、各同心円間の間隔を、ペレットの直径よりは小さいが半径よりは大きい範囲内において所定の大きさに設定したことを特徴とする平面研磨装置用定盤。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
