特許
J-GLOBAL ID:200903099866782549
撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩澤 寿夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-055987
公開番号(公開出願番号):特開平5-215905
出願日: 1991年02月27日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 光学部材に耐水性に優れた撥水性薄膜を形成する方法及び耐水性に優れた撥水性薄膜を有する光学部材を提供する。【構成】 n-CF3CH2CH2Si(NH2)3 等の単位式 Cp F2p+1CH2CH2Si(NH)1.5(ただし、pは1以上の整数である)で表される有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成することを含む、薄膜を有する光学部材の製造方法。上記有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法により形成した薄膜を有する光学部材。特に、薄膜の屈折率が1.30〜1.37であり、かつ膜厚が1〜50オングストロームである光学部材。
請求項(抜粋):
下記単位式(I):Cp F2p+1CH2CH2Si(NH)1.5(ただし、pは1以上の整数である)で表わされる有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成することを含む、薄膜を有する光学部材の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭60-221470
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特開昭63-296002
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特開平2-197801
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