特許
J-GLOBAL ID:200903099883736577

膜厚測定装置及び真空成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横川 邦明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-268394
公開番号(公開出願番号):特開平7-103724
出願日: 1993年09月30日
公開日(公表日): 1995年04月18日
要約:
【要約】【目的】 フィルム材料の幅方向の膜厚情報を得ることができ、しかも真空成膜装置内の非常に狭い場所にも設置することができる膜厚測定装置を提供する。【構成】 フィルム材料10上の薄膜層の厚さを測定する膜厚測定装置である。この装置は、フィルム材料10に対向して配置された保持用板材26と、その板材26の側面上の異なる位置P1〜P4に保持された4個のハーフミラー27a〜27dと、フィルム材料10の搬送路を挟んで各ハーフミラー27a〜27dに対向する位置に配置された光センサ28と、各ハーフミラー27a〜27dに順次に入射する平行光Bを発光する光源とを有する。各光センサ28によって、フィルム材料10の幅方向の膜厚を検出でき、しかも光源は1個で済むので狭い設置空間に設置できる。
請求項(抜粋):
フィルム基材及びそのフィルム基材の上に積層された薄膜層を有するフィルム材料に関し、その薄膜層の厚さを測定する膜厚測定装置において、平行光線を放射する光源と、その平行光線の進行路上の異なる位置においてフィルム材料に対向して配置されていて、その平行光線に対して傾けて設けられた複数のハーフミラーと、フィルム材料の搬送路を挟んで上記各ハーフミラーに対向する位置に配置された光検出手段とを有することを特徴とする膜厚測定装置。

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