特許
J-GLOBAL ID：200903099885337009
光学的な開口の形成方法とその形成方法によって作製される近接場光デバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377253
公開番号（公開出願番号）：特開2002-181683
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、近接場光の発生・検出源となる光学的な開口の形成方法とその形成方法によって作製された近接場光デバイスを提供することである。【解決手段】 錐状のチップと前記チップの近傍に配置され、前記チップと略同じ高さを有するストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜からなる被開口形成体に対して、少なくとも前記チップおよび前記ストッパーの少なくとも一部を覆うような略平面を有する押し込み体を、前記チップに向かう成分を有する力によって変位させることによって、前記チップ先端に光学的な開口を形成することを特徴とする近接場光デバイスの製造方法とした。
請求項（抜粋）：
錐状のチップと、前記チップの近傍に配置され、前記チップと略同じ高さを有するストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜からなる被開口形成体に対して、少なくとも前記チップおよび前記ストッパーの少なくとも一部を覆うような略平面を有する押し込み体を、前記チップに向かう成分を有する力によって変位させることによって、前記チップ先端に光学的な開口を形成する押し開け工程を含むことを特徴とする近接場光デバイスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 13/14 B
, G12B 1/00 601 C
