特許
J-GLOBAL ID:200903099896428227
ハイドロシリレーシヨン触媒の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-099615
公開番号(公開出願番号):特開平5-132623
出願日: 1992年04月20日
公開日(公表日): 1993年05月28日
要約:
【要約】【目的】 少ない触媒量で、早い硬化と優れた剥離性を示すコーティング組成物を提供する。【構成】 (A)一般式 Rh(R2S)3X3で表されるロジウム錯体と、(B)有機水素ポリシロキサンを、(C)ビニルおよびアリル基から選ばれるケイ素に結合した基を有するオルガノシロキサンの存在下に反応させる。その際(B)によりもたらされたケイ素に結合した水素原子の、(A)によりもたらされたRh原子に対する比が、0.5:1〜6:1の範囲である。
請求項(抜粋):
以下のことを包含することを特徴とするハイドロシリレーション反応における使用に適した触媒の製造方法:(A)一般式 Rh(R2S)3X3〔ここに、Rは炭素数8以下のアルキル基、フェニル基または R'3SiQ- (ここに、Q は炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基、それぞれのR' は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜8のアリール基および(CH3)3Si-であり、1つ以上のR' は(CH3)3Si-ではない)であり、かつXはClまたはBrである〕で表されるロジウム錯体と、(B)有機水素ポリシロキサン(この中で、有機置換基は炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基から選ばれ、全有機基の少なくとも70%はメチル基である)を、(C)ビニルおよびアリル基から選ばれるケイ素結合した基を有し、残余の有機基は炭素数1〜6のアルキル基およびフェニル基であり、ケイ素結合した全ての置換基の少なくとも50%はメチル基であるような、オルガノシロキサンの存在下に反応させ、(B)によりもたらされたケイ素結合した水素原子の、(A)によりもたらされたRh原子に対する比が、0.5:1〜6:1の範囲である。
IPC (5件):
C08L 83/07 LRR
, B01J 31/22
, C08G 77/38 NUF
, C08K 5/58
, C08L 83/05
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