特許
J-GLOBAL ID：200903099898586938
電子写真用光受容部材の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-105535
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317920
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 帯電能、画像流れが共に良好で、白ポチ、ゴーストなどの画像特性も改善されたa-Si系電子写真用光受容部材の製造方法を提供する。【構成】 光導電層および表面層が、それぞれシリコンおよび炭素原子を母体とする非単結晶系材料から成る電子写真用光受容部材の作製において、周波数20〜450MHzのVHF波を用い、特に表面層中の水素原子含有量を8〜45原子%とし、さらにカソードにバイアスを印加して作製を行なう。
請求項（抜粋）：
シリコン原子を母体とする非単結晶シリコン系材料から成る1つ以上の光導電層および炭素原子を母体とする非単結晶炭素系材料から成る表面層を基体上に順次積層する電子写真用光受容部材形成方法において、光導電層および表面層の積層を、周波数20MHz〜450MHzの電磁波により生起されるグロー放電で原料ガスを分解するプラズマCVD法によって、連続的に行なうことを特徴とする電子写真用光受容部材形成方法。
IPC (3件)：
G03G 5/08 360
, G03G 5/08 301
, G03G 5/08 303
