濃縮設備の濃縮度制御装置及び濃縮度制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-161814
公開番号（公開出願番号）：特開2002-355666
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】【課題】オペレータによる頻繁な調整を不要としながらも、濃縮設備から取り出される濃縮液の濃縮度をオペレータによる調整よりも安定させることのできる濃縮設備の濃縮度制御装置及び濃縮度制御方法を提供すること。【解決手段】送り込まれる排液を熱源を用いて蒸留することにより、濃縮された濃縮液を取り出すにあたり、燃焼設備1から排出される排ガスを熱源として利用する濃縮設備2のための濃縮度制御装置であって、濃縮液の濃縮度を安定化させるために、過去のプロセス操作データ、及び/又は、プロセス状態量を入力変数とし、かつ、濃縮液の濃縮度、又は、濃縮度と一対一の関係にある出力値を出力変数とした統計モデル式を用いたフィードフォワード制御を行う。

請求項（抜粋）：

濃縮設備に送り込まれる排液を熱源を用いて蒸留することにより、濃縮された濃縮液を取り出すにあたり、燃焼設備から排出される排ガスを前記熱源として利用する濃縮設備のための濃縮度制御装置であって、前記濃縮液の濃縮度を安定化させるために、過去のプロセス操作データ、及び/又は、プロセス状態量を入力変数とし、かつ、前記濃縮液の前記濃縮度、又は、前記濃縮度と一対一の関係にある出力値を出力変数とした統計モデル式を用いたフィードフォワード制御を行うことを特徴とする濃縮設備の濃縮度制御装置。

IPC (3件)：

C02F 1/04 , B01D 1/00 , C02F 1/16

FI (3件)：

C02F 1/04 Z , B01D 1/00 A , C02F 1/16

Fターム (16件)：

4D034AA11 , 4D034BA01 , 4D034CA12 , 4D034CA21 , 4D034DA02 , 4D076AA01 , 4D076AA24 , 4D076BA01 , 4D076DA08 , 4D076DA28 , 4D076EA06Y , 4D076EA12Y , 4D076EA13Y , 4D076EA45 , 4D076HA06 , 4D076JA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭55-160220
特開平3-026301
特開平4-219101

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