有害物質処理方法およびその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光石俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-016521
公開番号（公開出願番号）：特開2000-102794
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】埋立地侵出水や産業排水等中の例えば有機ハロゲン系化合物などのような有害物質を処理する有害物質処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】排水11中の有機物及びアンモニア体を生物学的に分解し、炭酸ガスと硝酸イオンまで酸化する酸化・硝化曝気槽12と、硝酸イオンを生物学的に窒素ガスに還元・除去する脱窒素槽13と、排水内の微生物を沈殿分離する沈殿槽14と、該沈殿処理水に凝集剤15aを添加して混和させる混和槽15、沈殿槽処理水に含まれる懸濁物質(SS成分)を凝集沈殿させる凝集沈殿塔16と、微量SS成分を除去する砂濾過塔17と、排水中の着色成分を除去する活性炭吸着塔18と、排水中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段19を有する処理槽20とを備えてなる。

請求項（抜粋）：

排水中の有機物,窒素成分,SS成分,着色成分を除去した後に、該排水中にヒドロキシラジカル存在の下で、該排水中の難分解物質を分解処理することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (8件)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/32 , C02F 1/58 CDV , C02F 9/00 501 , C02F 9/00 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

FI (12件)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/32 , C02F 1/58 CDV A , C02F 9/00 501 F , C02F 9/00 501 H , C02F 9/00 502 P , C02F 9/00 502 D , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 R , C02F 9/00 502 N , C02F 9/00 503 C , C02F 9/00 504 A

Fターム (57件)：

4D037AA11 , 4D037AB01 , 4D037AB02 , 4D037AB05 , 4D037AB12 , 4D037AB14 , 4D037BA18 , 4D037BA26 , 4D037BB04 , 4D037BB05 , 4D037BB08 , 4D037CA01 , 4D037CA02 , 4D037CA03 , 4D037CA07 , 4D037CA08 , 4D037CA11 , 4D037CA12 , 4D038AA08 , 4D038AB03 , 4D038AB07 , 4D038AB12 , 4D038AB14 , 4D038AB28 , 4D038BA02 , 4D038BA04 , 4D038BB04 , 4D038BB06 , 4D038BB07 , 4D038BB16 , 4D038BB17 , 4D038BB18 , 4D038BB19 , 4D038BB20 , 4D050AA12 , 4D050AB03 , 4D050AB07 , 4D050AB11 , 4D050AB17 , 4D050AB19 , 4D050AB34 , 4D050AB35 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BC09 , 4D050BC10 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050CA04 , 4D050CA06 , 4D050CA09 , 4D050CA15 , 4D050CA16 , 4D050CA17 , 4D050CA20

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