特許
J-GLOBAL ID:200903099922042618

スタンパの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-013768
公開番号(公開出願番号):特開平5-205321
出願日: 1992年01月29日
公開日(公表日): 1993年08月13日
要約:
【要約】【目的】 光(磁気)ディスク成型用スタンパの電鋳加工において、電鋳加工初期に生ずる導電膜の剥離欠陥を防止する。【構成】 ガラスマスター原盤にガス圧8mtorr(アルゴン)、入射電力1KWでニッケルをスパッタリングにて形成する。このニッケルの膜厚を200〜350Å、引っ張りの内部応力が7×109dyn/cm2以上とする。
請求項(抜粋):
基板表面にフォトレジストを塗布し、該フォトレジストの所定部分を露光し現像することによってフォトレジストパターンを形成し、該フォトレジストパターンをマスクとして前記基板をエッチングした後前記フォトレジストパターンを除去して前記基板からマスター原盤を作成し、該マスター原盤上に引っ張りの内部応力をもったニッケル薄膜からなる導電膜を形成した後、前記マスター原盤に電鋳加工を行うことによってスタンパを製造することを特徴とするスタンパの製造方法。
IPC (4件):
G11B 7/26 511 ,  B29C 33/38 ,  B29C 45/26 ,  B29L 17:00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭59-045433

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