特許
J-GLOBAL ID:200903099940709956
酸化シリコンを主成分とする被加工物の研磨方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三品 岩男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-141895
公開番号(公開出願番号):特開平10-335278
出願日: 1997年05月30日
公開日(公表日): 1998年12月18日
要約:
【要約】【課題】 酸化シリコン膜2が形成されているシリコンウェハ1と研磨工具5との間に研磨剤を介在させて、酸化シリコン膜2を研磨する際、研磨剤中の砥粒等が研磨工具5や酸化シリコン膜2に付着するのを防ぐ。【解決手段】 研磨剤10として、砥粒を含まない酸性フッ化アンモン水溶液を用いる。酸化シリコン膜2の凸部は研磨工具5による摩擦作用を大きく受け、この部分の軟質化が促進される。軟質化した凸部は、凹部よりも、酸性フッ化アンモン水溶液10の化学的な溶去作用を強く受けて、積極的に溶去される。この結果、凸部が選択的に研磨され、酸化シリコン膜2の表面が平坦化される。
請求項(抜粋):
酸化シリコンを主成分とする被加工物と研磨工具とのうち、一方を他方に対して相対移動させると共に、該被加工物と該研磨工具との間に研磨剤を介在させて、該被加工物を研磨する、被加工物の研磨方法において、前記研磨剤として、酸性フッ化アンモン水溶液を用いることを特徴とする、酸化シリコンを主成分とする被加工物の研磨方法。
IPC (2件):
H01L 21/304 321
, B24B 37/00
FI (2件):
H01L 21/304 321 P
, B24B 37/00 H
前のページに戻る