特許
J-GLOBAL ID：200903099948206210
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-381339
公開番号（公開出願番号）：特開2004-165666
出願日： 2003年11月11日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】イマージョン・リソグラフィ装置内で基板を正確にアライメントし、かつ/又は正確に平準化する方法及び装置を提供すること。【解決手段】基板表面のマップを測定ステーションで生成する。次いで基板を、投影レンズと基板の間の空間が液体で充填される場所に移動する。次いで、基板を、たとえば透過イメージ・センサを用いてアライメントし、事前のマッピングを用いて基板を正確に露光できる。すなわち、マッピングは液体環境では行われない。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
投影放射線ビームを供給する放射系と、
所望のパターンに従って該投影ビームをパターニングするように働くパターニング手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターニングされたビームを投影する投影系と、
前記投影系の最終段要素と前記基板との間の空間を液体で充填する液体供給系と、
前記基板上の点の位置を測定する測定系と
を備えたリソグラフィ投影装置であって、
前記測定系が前記液体供給系の前記液体を介さずに前記基板上の点の位置を測定するように構成されたことを特徴とする
リソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 525R
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516F
, H01L21/30 514C
5F046BA04
, 5F046DA07
, 5F046ED02
, 5F046FA10
, 5F046FA17
, 5F046FA20
