化学線感応性組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-043705
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258836
出願日： 1993年03月04日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【構成】本発明は、ナフトキノンジアジドスルホニル基を有する特定の化合物と、ポリイミド系ポリマとを含むことを特徴とする化学線感応性組成物に関する。【効果】本発明の化学線感応性組成物によると、光照射部が溶解するポジ型の感光性ポリイミドであって実用性の高いものを得ることができるために、従来の露光した部分が残るネガ型の挙動をするものに較べて、露光時に使用するマスクなどに埃などが付着していてもその部分がピンホール(欠陥)などになることがなく、信頼性の高い製品を得ることができる。

請求項（抜粋）：

一般式[1]で表される化合物(A)および/または一般式[2]で表される化合物(B)と、一般式[3]で表される構造単位を有するポリマ(C)とを含むことを特徴とする化学線感応性組成物。【化1】(Qは、分子中少なくとも1個は、ナフトキノンジアジドスルホニル基であり、それ以外は、1価の有機基を表す。R1 は、少なくとも2個の炭素原子を有する4価の有機基を表す。)【化2】(Q,R1 は、一般式[1]と同様、R2 は、水素またはアルカリ金属対イオンを表す。mは1〜4の整数、nは0〜3の整数を表す。但し、m+n=4である。)【化3】(R2 は、一般式[2]と同様、R3 は、少なくとも2個の炭素原子を有する3価または4価の有機基、R4 は、少なくとも2個の炭素原子を有する2価の有機基を表す。pは1または2である。)

IPC (7件)：

G03F 7/039 501 , C08G 73/10 NTF , C08L 79/08 LRC , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , H01L 21/027 , H01L 21/312

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平4-070659
特開平4-031860
特公昭59-052822

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審査官引用 (2件)

特開平4-307144
特開平4-211744

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