特許
J-GLOBAL ID：200903099975209778
半導体縦型拡散炉用治具
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329989
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163440
出願日： 1992年11月16日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【構成】 上板及び下板と、これら上下板間に配設された支柱とを具備する炭化珪素質からなる半導体縦型拡散炉用の治具本体に、シリコンウエハーの周縁部を水平方向に沿って支持するリング状もしくは一部が切り欠かれたリング状の炭化珪素質からなるウエハー支持体を着脱可能に取り付けてなることを特徴とする半導体縦型拡散炉用治具。【効果】 本発明の半導体縦型拡散炉用治具は、熱処理の際にシリコンウエハーに発生するスリップを防止することができ、大口径シリコンウエハー熱処理用の治具として有用である。
請求項（抜粋）：
上板及び下板と、これら上下板間に配設された支柱とを具備する炭化珪素質からなる半導体縦型拡散炉用の治具本体に、シリコンウエハーの周縁部を水平方向に沿って支持するリング状もしくは一部が切り欠かれたリング状の炭化珪素質からなるウエハー支持体を着脱可能に取り付けてなることを特徴とする半導体縦型拡散炉用治具。
IPC (3件)：
H01L 21/22
, H01L 21/68
, C23C 16/44
