研課題
J-GLOBAL ID:200904025142223017  研究課題コード:1851 更新日:2013年10月07日

グラフェン・オン・シリコン材料・デバイス技術の開発

実施期間:2007 - 2012
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
グラフェン・オン・シリコン(GOS)材料・プロセス技術の開発を通し、相補的スイッチングデバイス(CGOS)及びプラズモン共鳴テラヘルツデバイス(PRGOS)技術の開発を行います。
研究制度: 戦略的創造研究推進事業(チーム型研究)
研究所管省庁:
文部科学省
研究所管機関:
独立行政法人科学技術振興機構
研究予算: 0(千円)
上位研究課題 (1件):

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