研課題
J-GLOBAL ID:200904043867779663  研究課題コード:9800016713 更新日:1996年12月18日

スパッタリング法による強誘電体膜の形成

Deposition of ferroelectric films by sputtering method
実施期間:1992 - 0
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
スパッタ法によって強誘電体膜の形成を各種のターゲット材料から試みている。堆積する膜の結晶方位の制御の研究を行っている
キーワード (4件):
スパッタ蒸着 ,  強誘電体 ,  薄膜 ,  結晶方位
研究制度: 経常研究

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