研課題
J-GLOBAL ID:200904044227859845  研究課題コード:9800025709 更新日:1995年03月23日

理想表面創製によるマテリアル・インターコネクションの基盤技術に関する研究 2.表面制御による界面創製研究 (3)表面の組成制御・結晶方位制御による低エネルギー界面創製技術に関する研究

Study on the base technology for material interconnection by creation of ideal surface (3) Study on creative production technology for low energy interface by control of surface composition and crystal orientation
実施期間:1990 - 1992
研究概要:
1) 研究目標 原子的レベルで制御された表面・界面の創製・評価技術、及び精密接合技術を総合化し、目的とする構造、機能をもつ固体界面を得るプロセスを開発するため、(1)界面の理論的研究及び理想表面・界面の評価研究、(2)理想表面制御による界面創製研究、を行う。 2) 研究計画 (1) 界面の理論的研究及び表面・界面の評価研究 同種及び異種材料間の原子構造、電子構造などについて理論的検討を行い、インターコネクション界面の設計システムを構築するとともに、原子・分子レベルで制御された材料表面及びインターコネクション界面の形状、組成、構造及び機能等を評価するための基盤技術を確立する。 (2) 表面制御による界面創製研究 材料表面の平滑化、清浄化、組成・構造制御などの要素技術を開発し、目的とする構造、機能を持つ固体界面を得るためのプロセス開発の基盤技術を確立する
キーワード (7件):
表面処理 ,  表面構造 ,  結晶構造 ,  省エネルギー ,  構造設計 ,  プロセス開発 ,  接合
研究制度: 科学技術振興調整費による総合研究
研究所管省庁:
文部科学省
研究予算: 1992年度: 31,785(千円)

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