研課題
J-GLOBAL ID:200904044640374698  研究課題コード:9800033032 更新日:2003年12月15日

プラズマCVDによる機能性薄膜の形成に関する研究

Functional thin film deposition by plasma CVD
実施期間:1995 - 1997
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (2件):
研究概要:
プラズマCVDによる薄膜の形成においては,成膜条件により,薄膜特性が大きく変化することが知られている。本研究では,出発原料として炭素・水素・酸素・ケイ素などを含む物質について検討し,又,成膜機構を変化させることで,新規な機能性を有する新素材としての薄膜の開発を行う
キーワード (4件):
プラズマCVD ,  薄膜 ,  薄膜成長 ,  機能材料
研究制度: 経常研究
研究予算: 1995年度: 0(千円)

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