研課題
J-GLOBAL ID:200904049620036828  研究課題コード:9800007035 更新日:2003年12月15日

半導体素子関連の超薄膜作成と表面・界面物性

Preparation and surface and interface properties of ultra-thin-films related to semiconductor devices
実施期間:1989 - 0
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (3件):
研究概要:
半導体素子に関連した,金属,半導体,絶縁体超薄膜接合系を種々の手法により作成し,その表面層や基板半導体との接合界面の物性を光子・電子分光法などにより研究する
キーワード (12件):
薄膜成長 ,  半導体薄膜 ,  金属薄膜 ,  誘電体薄膜 ,  表面 ,  界面 ,  基板 ,  半導体素子 ,  電子分光法 ,  表面分析 ,  半導体接合 ,  MIS構造
研究制度: 経常研究

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