研課題
J-GLOBAL ID:200904059564187791  研究課題コード:9800047902 更新日:2006年03月16日

新しい希薄磁性半導体の合成と評価

実施期間:1996 - 1996
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (3件):
研究概要:
日本側は薄膜形状の希薄磁性半導体の合成と磁気光学特性の評価を行う。ポーランド側は希薄磁性半導体の単結晶の合成と、遠赤外光吸収分光及び精密磁化測定を行う。互いの試料の交換と評価により共同でデータの解析及び議論を行い、材料特性の解明と新物質の探索を行う。
研究制度: 科学技術振興調整費による個別重要国際共同研究
研究所管省庁:
経済産業省
研究所管機関:
国立研究開発法人産業技術総合研究所
研究予算: 1996年度: 6,072(千円)

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