研課題
J-GLOBAL ID:200904085177650620  研究課題コード:9800028845 更新日:2001年03月30日

酸化物薄膜の作製技術開発

Development of fabricating oxide thin film
実施期間:1994 - 1996
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (2件):
研究概要:
Pb,Zr,Ti等の金属またはそれらの酸化物を電子ビーム加熱によって蒸発させ,薄膜を作製する。酸化物薄膜作製の際に起こる問題について研究する
キーワード (8件):
薄膜 ,  酸化物 ,  誘電体 ,  鉛 ,  ジルコニウム ,  チタン ,  薄膜成長 ,  電子ビーム蒸着
研究制度: 経常研究
研究予算: 1995年度: 200(千円)

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