研課題
J-GLOBAL ID:200904089581008678  研究課題コード:9800046865 更新日:2006年03月16日

新機能材料創製とその物質の精密計測技術に関する基礎研究

実施期間:1996 - 1996
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
イオンビームやレーザー等のビームを利用した非熱平衡的な材料生成・結晶成長の手法により、新しい半導体材料SiGe,SiGeC,β-FeSi2など新たな素子を形成する技術の研究開発を行う。また、新物質合成技術の開発に必要な固体試料表面層における精密計測のために、イオンビーム散乱法による新しい精密計測技術の開発を行う。また、X線を利用した精密計測技術の開発のために、プローブX線を目的に応じて細く絞るためのX線マイクロビームの開発を行う。
研究制度: 科学技術振興調整費による重点基礎研究
研究所管省庁:
経済産業省
研究所管機関:
国立研究開発法人産業技術総合研究所
研究予算: 1996年度: 16,489(千円)

前のページに戻る